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Name: | Titanspritzenziel-hoher Reinheitsgrad-Titanziel | Schlüsselwörter: | Titanspritzenziel |
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Anwendung: | Beschichtung, Elektronikindustrie | Grad: | Gr1 TA1 rein |
Dichte: | 4.51g/cm3 | Reinheit: | 99.9%-99.999% |
Reinheit 1: | 2N8-4N | Material: | Titan |
Hervorheben: | Hoher Reinheitsgrad-Titanziel,Experimentelles elementares Titanziel,Titanspritzenziel des Magnetron-Gr1 |
Von hohem Reinheitsgrad experimentelles elementares Titan des Titanc$spritzenziels des ziels 99,999%
Kundengebundenes Titanziel-rundes Titanziel
Produkt | Reines Ziel des Titans (TI)) |
Reinheit | 2N8-4N |
Dichte | 4.51g/cm3 |
Beschichtende dominierende Farbe | Goldblau/-Rose Red/-Schwarzes |
Form | zylinderförmig |
Allgemeine Größe | Durchmesser 60/65/95/100*30/32/40/45mm |
Normalerweise versehen wir ein Qualitätsabnahmeprüfprotokoll so mit den Waren,
welches die chemische Zusammensetzung und die physikalischen Eigenschaften zeigt
Quadratisches Titanziel, rundes Titanziel, spezielles Formtitanziel
Reinheit ist einer der Zielleistungsindikatoren.
Die Reinheit des Zielmaterials hat einen großen Effekt auf die Leistung des Filmes.
Hauptleistungsanforderungen für Ziele:
Reinheit
Reinheit des Ziels ist einer der Hauptleistungsindikatoren des Ziels, weil die Reinheit des Ziels groß die Leistung des Filmes beeinflußt. Jedoch in den tatsächlichen Anwendungen, sind die Anforderungen für Reinheit des Zielmaterials nicht die selben. Zum Beispiel mit der schnellen Entwicklung der Mikroelektronik wurde die Industrie, welche die Größe der Siliziumscheibe von 6", 8" bis 12", die verdrahtende Breite erweitert wurde, von 0,5 um bis 0,25 um, 0,18 um und 0,13 um verringert. Vorher war die Zielreinheit 99,995%.
Störstellengehalt
Die Hauptquelle des niedergelegten Filmes ist der Sauerstoff und die Feuchtigkeit der Zielkörper und -poren. Ziele für verschiedene Anwendungen haben verschiedene Anforderungen für verschiedene Störstellenniveaus. Zum Beispiel haben Ziele von den Reinaluminium- und Aluminiumlegierungen, die in der Halbleiterindustrie benutzt werden, spezielle Anforderungen für Alkalimetallinhalt und Inhalt des radioaktiven Elements.
Dichte
Zwecks die Poren der Zielkörper verringern sollen und die Leistung von gespritzten Filmen verbessern, müssen die Ziele gewöhnlich dichter. Die Zieldichte beeinflußt nicht nur die Spritzenrate aber auch die elektrischen und optischen Eigenschaften des Filmes. Das höher die Zieldichte, das besser die Filmleistung. Darüber hinaus wenn die Zieldichte und die Intensität angehoben werden, kann das Ziel der Wärmebelastung während des Spritzens widerstehen. Dichte ist einer der Zielleistungsindikatoren.
Korngröße und Korngrößenverteilung
Normalerweise ist das Ziel polykristallin, und die Teilchengröße möglicherweise ist im Auftrag von Mikrometern zum Millimeter. Im Falle des gleichen Ziels ist die Spritzenrate des feinkörnigen Ziels schneller, als die Spritzenrate des grobkörnigen Ziels, während Absetzung des Ziels der Teilchengröße (einheitliche Verteilung) spritzen Sie, eine einheitliche Stärkeverteilung (Uniform) hat. Verteilung.
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