Hoher Reinheitsgrad-Titanspritzenziel CNC-Drehbank-Oberfläche für Glasbeschichtung

Hoher Reinheitsgrad-Titanziel-Titan-Spritzenziel

Wir können rundes Titanziel, quadratisches Titanziel, rechteckiges Titanziel zur Verfügung stellen,

oder entsprechend Ihren Anforderungen oder Zeichnungen.

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Berufstitanherstellungserfahrung.

Weil wir nur Titan machen, sind wir im Titan professioneller

ISO9001: Bescheinigung 2015

Freundlicher Kundendienst und kurze Lieferfrist.

Titanspritzenziele werden hauptsächlich in den elektronischen und Informationsindustrien wie integrierten Schaltungen, Informationsspeicherung, Flüssigkristallanzeigen, Laser-Gedächtnis und elektronisches Steuergeräten benutzt. Sie können auf dem Gebiet der Glasbeschichtung auch benutzt werden. Sie kann in den haltbaren Materialien, in den korrosionsbeständigen, erstklassigen dekorativen Produkten der hohen Temperatur und in anderen Industrien auch verwendet werden.

, Titanspritzenziel von hohem Reinheitsgrad mit hoher Dichte:

Titanspritzenziel (Reinheit: 99,9% -99,999%)

Magnetronspritzenbeschichtung ist ein neuer Typ körperliche Absetzungsmethode. Es gibt viele offensichtlichen Vorteile über beschichtenden Methoden des Bedampfens. Als verhältnismäßig reife Technologie, die entwickelt wird, ist das spritzende Magnetron auf vielen Gebieten angewendet worden. Titanspritzenziel
Spritzentechnologie-Titanspritzenziel

Das Spritzen ist eine der führenden Technologien für die Herstellung von Dünnfilmmaterialien. Die Ionen, die durch die Ionenquelle erzeugt werden, werden benutzt, um im Vakuum sich zu beschleunigen und anzusammeln, um einen schnellen Energieionenstrahl, wirken die feste Oberfläche und tauschen aus kinetische Energie zwischen den Ionen und den festen Oberflächenatomen zu bilden aus. Atome auf der Oberfläche eines festen Urlaubs der Körper und die Ablagerung auf der Oberfläche des Substrates. Der ausgewirkte Körper ist ein Rohstoff für das Vorbereiten von den Dünnfilmen, die durch die Spritzenmethode niedergelegt werden, genannt Spritzenziele. Verschiedene Arten von gespritzten Dünnfilmmaterialien sind in den Halbleiterintegrierten schaltungen, im photovoltaics, in notierenden Medien, in den Flachbildschirmanzeigen und in den Werkstückoberflächenbeschichtungen weitverbreitet.

Verarbeitung von verschiedenen beschichtenden Zielen:

Metallziele: Wolframtarget, Molybdänziel, Tantalziel, Niobiumziel, Zirkoniumziel, Kobaltziel, Vanadiumziel, kupfernes Ziel, Platinziel, Hafniumziel, Niobiumziel, Aluminiumziel, Eisenziel, Chromziel, Titanniobiumlegierungsziel, Titanzirkoniumlegierungsziel, Titanwolframlegierungsziel, Ziel der Legierung TitangUI, Titanaluminiumziel, Nickelchromlegierungsziel, Aluminiumchromlegierungsziel, Titanziel von hohem Reinheitsgrad, Ultra-hochreinheitstitanziel, Nickelziel von hohem Reinheitsgrad, Tantalziel von hohem Reinheitsgrad, Polysilicon Zielmaterial, Ultrahochreinheits-Aluminiumziel, (99.95%-99.999%),

Klassifikation: Multi-Bogenionenbeschichtungsziel, flaches Titanziel, Titandrehrohrziel, hintere Platte des Titanziels, hinteres Rohr des Titanziels

Gebrauch: Werkzeugbeschichtung, dekorative Beschichtung, Elektronikindustrie, Flachbildschirmanzeigeindustrie, niedrig--e Glasbeschichtung des großen Gebiets, Halbleiter, LCD, Solarenergieindustrie, optische Linse, optoelektronische Industrie, keramisches verbindliches Ziel, Sprühziel, etc.